29 октября

Intel, Samsung и Toshiba планируют вдвое сократить проектные нормы чипов

Компании Intel, Toshiba и Samsung Electronics намерены создать консорциум для совместной разработки технологии, которая позволит к 2016 году начать производство 10 нм кристаллов. Об этом сообщает Reuters со ссылкой на японское издание Nikkei Daily.

П

оловину первоначальных инвестиций в проект (около $61 млн) внесет Министерство экономики, торговли и промышленности Японии, а вторую половину - члены консорциума.

Toshiba и Samsung планируют воспользоваться разработанными технологиями для производства 10-нм чипов флэш-памяти типа NAND, а Intel - для создания более производительных микропроцессоров.

Источник Reuters

Оцените материал:

Комментарии

0 / 0
0 / 0


© 2010 Radio-Korolev.Ru. Все права защищены.